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多功能真空校准装置的漏孔校准

发布日期:2017年11月19日

漏孔校准:

漏孔校准采用四极质谱比对法校准。比对法校准较小漏率真空漏孔时,为了得到与被校漏孔相同或相近的气体流量,一般采用固定流导法作为标准气体流量获得的手段,该方法具有结构简单、操作方便、测量不确定度小、校准精度高等优点。

原理为利用已知流量的标准漏孔,通过稳压室压力的调节,向双球校准室注入稳定流量的气体,并利用分子泵机组对真空校准室持续抽气,并通过微调阀调节气体的流量,使校准室压力维持在合适的校准压力范围内,为校准室建立起漏孔气体的动态平衡。首先利用四极质谱计获得标准漏孔的离子流参数,再切换到被较漏孔,获得被较漏孔状态下的四极质谱计离子流。通过公式(1)计算得出被较漏孔漏率数值。

多功能真空校准装置的校准原理方法

式中:QL—被较漏孔的漏率,Pa·m3/s;

L—被校漏孔微流量对应的离子流,A;

IS—标准漏孔微流量所对应的离子流,A;

I0—系统本底离子流,A;

Q—标准漏孔的漏率,Pa·m3/s。